N-HELIX-英国OXFORDCRYOSYSTEM低温冷却系统

北京优纳珂科技有限公司为您提供n-helix-英国oxfordcryosystem低温冷却系统。产品介绍：
n-helix冷却系统采用低温氮气作为冷却介质，避免液态低温介质的高成本和维护问题。控制系统可以对氮气进行自动切换，取决于实验所需的温度范围。n-helix冷却系统可为28-300k温度之间的低温实验需求提供解决方案，非常适合蛋白晶体或小分子晶体的低温研究。
可选用氮气作为冷却介质，实验成本低，维n-helix冷却系统可为28-300k温度之间的低温实验需求提供解决方案，非常适合蛋白晶体或小分子晶体的低温研究。
护方便；
控制系统可根据实验需求自行切换氮气；
可以进行远程监视和控制
氮气可以用氮气发生器从空气中直接提取。
技术参数
温度范围 氮气：100-300k
控温精度 0.3 k
降温速度 室温~100k，用时45 min
室温~30k，用时75 min
冷却介质 低温氮气
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